Be Ready

Phương trình F2 + SiO2 → O2 + SiF4

Xem thông tin chi tiết về điều kiện, quá trình, hiện tượng sau phản ứng, các chất tham phản ứng, các chất sản phẩm sau phản ứng của phương trình F2 + SiO2 → O2 + SiF4

Thông tin chi tiết về phương trình

Điều kiện phản ứng khi cho tác dụng F2 + SiO2

  • Chất xúc tác: không có
  • Nhiệt độ: Nhiệt độ.
  • Áp suất: thường
  • Điều kiện khác: không có

Quá trình phản ứng F2 + SiO2

Quá trình: cho flo tác dụng với SiO2.

Lưu ý: không có

Hiện tượng xảy ra sau phản ứng F2 + SiO2

Hiện tượng: Chất rắn màu trắng của Silic oxit (SiO2) mất dần và chuyển sang thể khí.

Thông tin chi tiết các chất tham gia phản ứng

Thông tin về F2 (flo)

  • Nguyên tử khối: 37.9968064 ± 0.0000010
  • Màu sắc: vàng lục nhạt
  • Trạng thái: khí
F2-flo-77

Flo được sử dụng trong sản xuất các chất dẻo ma sát thấp như Teflon, và trong các halon như Freon. Các ứng dụng khác là: Axít flohiđric (công thức hóa học HF) được sử dụng để khắc kính. Flo đơn nguyên tử được sử dụng để khử tro thạch anh trong sản xuất các chất bán dẫn. Cùng với các hợp chất củ...

Thông tin về SiO2 (Silic dioxit)

  • Nguyên tử khối: 60.08430 ± 0.00090
  • Màu sắc: Bột trắng
  • Trạng thái: chất rắn
SiO2-Silic+dioxit-175

Silica thường được dùng để sản xuất kính cửa sổ, lọ thủy tinh. Phần lớn sợi quang học dùng trong viễn thông cũng được làm từ silica. Nó là vật liệu thô trong gốm sứ trắng như đất nung, gốm sa thạch và đồ sứ, cũng như xi măng Portland....

Thông tin chi tiết các chất sản phẩm sau phản ứng

Thông tin về O2 (oxi)

  • Nguyên tử khối: 31.99880 ± 0.00060
  • Màu sắc: không màu
  • Trạng thái: Chất khí
O2-oxi-163

Oxy là một chất khí không màu, không mùi và không vị là một chất khí cần thiết cho sự tồn tại của con người. Oxy có nhiều ứng dụng trong ngành sản xuất thép và các quá trình luyện, chế tạo kim loại khác, trong hóa chất, dược phẩm, chế biến dầu khí, sản xuất thủy tinh và gốm cũng như sản xuất giấy và...

Thông tin về SiF4 (Silic tetraflorua)

  • Nguyên tử khối: 104.07911 ± 0.00030
  • Màu sắc: Không màu
  • Trạng thái: Khí
SiF4-Silic+tetraflorua-1110

Hợp chất dễ bay hơi này được sử dụng hạn chế trong vi điện tử và tổng hợp hữu cơ...

Tổng số đánh giá:

Xếp hạng: / 5 sao

Các phương trình điều chế F2

KF
F2
+
K

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

thường

Áp suất

thường

Điều kiện khác

thường

2
HF
F2
+
H2

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

thường

Áp suất

thường

Điều kiện khác

KF

2
ClF3
Cl2
+ 3
F2

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

> 300

Áp suất

thường

Điều kiện khác

thường

Xem tất cả phương trình điều chế F2

Các phương trình điều chế SiO2

2
FeO
+
Si
2
Fe
+
SiO2

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

temperature

Áp suất

thường

Điều kiện khác

thường

H2SiO3
H2O
+
SiO2

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

when heated

Áp suất

thường

Điều kiện khác

thường

O2
+
Si
SiO2

Chất xúc tác

thường

Nhiệt độ

1200 - 1300

Áp suất

thường

Điều kiện khác

thường

Xem tất cả phương trình điều chế SiO2